發布日期:2022-08-16 浏覽次數:
供稿:凝聚體物理與材料物理研究所 |
編輯:孫嘉琪 |
審核:吳孝松
beat365官方网站凝聚态物理與材料物理研究所、納光電子前沿科學中心、人工微結構和介觀物理國家重點實驗室葉堉研究員、陳基研究員,beat365博雅博士後徐曉龍(現為北京理工大學預聘教授)與中國科學院大學周武教授等合作提出了一種在不同晶體對稱性、不同晶格常數和三維架構基底上異質外延生長半導體2H-MoTe2薄膜的通用合成技術,克服了襯底對異質外延的限制。2022年8月15日,相關研究成果以“用于大規模異質集成的任意表面上半導體2H-MoTe2薄膜的異質外延”(Heteroepitaxy of semiconducting 2H-MoTe2 thin films on arbitrary surfaces for large-scale heterogeneous integration)為題,在線發表于《自然·合成》(Nature synthesis)。
半導體行業依賴技術創新來保持器件小型化和成本降低的步伐。同時,信息的高速傳輸和處理需要将電子和光子器件集成在同一芯片上。因此,未來發展将同時采用平面和三維 (3D) 複合架構。在材料集成的不同策略中,外延生長是制造具有高質量界面的半導體異質結構的有效途徑。然而,在具有大晶格失配的任意材料(更不用說3D架構)上異質外延傳統3D 晶體薄膜且不産生具有高密度缺陷的界面是極具挑戰性的,因此需要新技術來打破晶格失配和結構不對稱對單晶半導體生長的限制。
最近,将二維(2D)半導體與傳統電子和光子學器件無縫集成引起了人們的極大興趣,這為矽基芯片帶來了新的應用。二維半導體表現出高的機械穩定性以及獨特的電子和光電特性,非常适合異質光電集成。實現高密度集成,光互連結構需要盡可能靠近電子器件。為了實現這一目标,首先需要開發一種在任意結構上直接合成單晶二維半導體的異質外延方法,包括在高度晶格不匹配的基底和非平面的3D架構上。因此,必須開發一種新的可以解除襯底限制的合成範式,即不同于傳統的垂直外延工藝(如金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、分子束外延(MBE)等)。
beat365官方网站葉堉研究員課題組在前期二維碲化钼(MoTe2)相變與可控制備的基礎上(J. Am. Chem. Soc. 141, 2128-2134, 2019; Science 372, 195-200, 2021),與合作者進一步提出了一種不受支撐基底限制的平面内二維橫向外延技術,将單晶2H-MoTe2半導體薄膜與高度晶格失配的平面晶體或任意形貌的3D架構異質集成(圖1),從而發展前所未有的集成技術與器件功能。

圖1 在平面單晶材料和三維形貌結構上直接合成二維半導體2H-MoTe2薄膜的異質光電集成示意圖
實驗中,合作團隊首先在半導體Si和GaN、絕緣4H-SiC、SrTiO3和藍寶石、磁性Gd3Ga5O12單晶襯底上合成了毫米級尺寸的單晶2H-MoTe2薄膜,展示了該生長機制不受基底晶格匹配的限制。以單晶GaN基底為例(圖2),實驗發現在2H-MoTe2的成核之前,Te原子會進入到1T’-MoTe2薄膜與單晶基底間的界面位置,還原并鈍化單晶基底表面從而形成了單原子Te的半範德華結構,降低了MoTe2薄膜與單晶基底間的原子相互作用。在此基礎上,2H-MoTe2薄膜的相變重結晶合成機理起到重要作用,多晶的1T’-MoTe2首先相變形成2H相的成核中心,進而形成了面内的1T’/2H的異質結。通過面内二維外延持續誘導相變的發生,相變過程伴随着以異質界面處2H相MoTe2為模闆的重結晶過程,使得相變後的整個薄膜的晶格取向和成核中心一緻,不受基底的限制。

圖2 在GaN基底上異質外延的2H-MoTe2界面掃面透射電鏡表征
此外,該外延方法也不受表面起伏的限制。例如,合作團隊在具有高深寬比(2.8)的三維結構基底(鳍形矽)上直接生長了2H-MoTe2薄膜(圖3)。與上述1T’-2H相變重結晶機理相同,2H-MoTe2薄膜在生長過程中可以跨越三維非平面基底并且它的晶格取向與成核中心保持一緻,從而在三維結構上依然可合成出單晶2H-MoTe2薄膜。2H-MoTe2的合成機制是通過相變重結晶過程實現,無需考慮基底的單晶性和形貌,因此可以在任意表面上進行合成,該研究為後續的2H-MoTe2異質集成研究提供了基礎。

圖3 在鳍形矽基底上異質外延的2H-MoTe2薄膜的截面掃描透射電鏡表征
合作團隊觀察到通過相變的平面内二維外延工藝不受晶格匹配和平面表面的限制,因此允許在任意襯底上合成大面積單晶 2H-MoTe2薄膜。通過将 2H-MoTe2 薄膜與1英寸Si晶圓集成,合作團隊制備了垂直p-n異質結陣列,該陣列表現出 100% 的器件良率、高器件性能和優異的均勻性(圖4)。合作團隊的方法為二維半導體2H-MoTe2薄膜與其他襯底的異質集提供了可能性。

圖4 晶圓級别的2H-MoTe2/Si異質pn結器件與伏安特性表征
2022年8月15日,相關研究成果以“用于大規模異質集成的任意表面上半導體2H-MoTe2薄膜的異質外延”(Heteroepitaxy of semiconducting 2H-MoTe2 thin films on arbitrary surfaces for large-scale heterogeneous integration)為題在線發表于《自然·合成》(Nature synthesis)。beat365官方网站2019級博士研究生潘宇、中國科學院大學物理科學學院博士後Roger Guzman為共同第一作者;beat365陳基研究員、中國科學院大學周武教授、beat365博雅博士後徐曉龍(現為北京理工大學預聘教授)和beat365葉堉研究員為共同通訊作者;主要合作者還包括beat365唐甯研究員、中國科學院微電子研究所殷華湘研究員、武漢大學何軍教授、中國科學院上海微系統與信息技術研究所武愛民研究員。
上述研究工作得到國家重點研發計劃、國家自然科學基金、北京市自然科學基金,以及beat365長三角光電科學研究院等支持。