清華物理系colloquium：近場光學中的非聚焦成像

報告題目： Full Band Engineering towards Topological State with Simultaneous Nonzero 報告人：王懷玉教授，清華大學物理系報告時間： 2013年3月21日（周四）16:00 報告地點：理科樓鄭裕彤講堂報告摘要: 成像的概念一般與聚焦的概念聯系在一起。而聚焦其實是一個遠場光學的概念，也就是與平面波相聯系的概念。在近場光學中，電磁場的分布并不是平面波。我們将介紹這時的成像是什麼機理。此時，一個金屬薄膜可以作為一個成像的器件。金屬薄膜成像，被誤認為是負折射率材料的成像。為此，我們将回顧負折射率的基本概念，介紹負折射率材料成像的條件。