三維拓撲晶體絕緣體是完全不同于拓撲絕緣體的一種新型拓撲材料,其拓撲性質受到晶格對稱性而非時間反演對稱性保護。最近由理論預測可以在SnTe類的四六族半導體中實現由鏡面對稱性保護的拓撲晶體絕緣體,并很快得到了美國、日本、瑞典和中國等不同地區的獨立實驗組的驗證,進而成為凝聚态物理領域一個很重要的研究的方向。
在中心成員段文晖教授的指導下,其博士生劉軍偉(文章第一作者),與美國麻省理工學院的傅亮教授(文章通訊作者)研究組以及Jagadeesh Moodera教授研究組等合作,結合能帶結構計算,k•p模型和拓撲能帶分析等研究方法,在拓撲晶體薄膜研究中取得了突破性進展。他們首先将三維拓撲晶體絕緣體的概念推廣到二維,提出了由鏡面對稱性保護的二維絕緣體的新型拓撲相,并證明這種新型的拓撲相可以在SnTe和PbxSn1-xSe(Te)的(001)薄膜實現。這種新型的拓撲材料,其體能帶具有能隙,但是在邊緣上存在由(001)鏡面對稱性保護的具有自旋過濾性質的邊緣态。更為重要的是,通過垂直于薄膜的電場,就可以破壞體系的鏡面對稱性,從而在邊緣态上産生一個電場調控的能隙。利用這種奇異的特性,此研究提出了一種新型晶體管,稱之為拓撲晶體管。在這種晶體管中,電荷輸運和自旋輸運極大地糾纏在一起,并且可以被外加電場同時調控。由于拓撲晶體管的工作原理與傳統晶體管的實現原理完全不同,其開/關狀态并不需要實現n型電子和p型電子的複合,因而可以在拓撲晶體管中實現很高的開關速度,同時具有很小的能耗。
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左圖:二維拓撲晶體絕緣體受鏡面對稱性保護的 拓撲邊緣态。右圖:可以通過外加電場,打開邊 緣态的能隙,從而實現電場調控的拓撲邊緣态, 為實現拓撲晶體管提供了物理基礎。 |
拓撲晶體管的原理示意圖 |
該成果以“Spin-filtered edge states with an electrically tunable gap in a two-dimensional topological crystalline insulator”為題發表在2014年2月的Nature Materials [Nat. Mat. 13, 178–183 (2014)]上。上述研究工作得到了國家自然科學基金和科技部“973”項目的資助。